Отправить статью по E-mail 
Физические и механические свойства, модель формирования и структура защитных пленок на основе углерода
- Авторы: Николаев Д.1
-
Учреждения:
- Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
- Выпуск: Том 16, № 2 (2013)
- Страницы: 64-69
- Раздел: Статьи
- URL: https://journals.ssau.ru/pwp/article/view/7370
- ID: 7370
Цитировать
Полный текст
Аннотация
В статье рассмотрены физические свойства, условия охлаждения и структура углеродных пленок; достоинства и недостатки алмазоподобных углеродных пленок, области применения; методы PVD. Предложена модель связывания атомов углерода, имплантированных в аморфную углеродную матрицу, согласно которой единственным и достаточным условием является ограничение температуры матрицы. Модель sp^3-связывания позволяет оценить понимание механизма PVD углеродных пленок, а также нестабильных фаз других веществ и материалов.
Об авторах
Д.П. Николаев
Национальный исследовательский университет «Высшая школа экономики»
Автор, ответственный за переписку.
Email: dnikolaev@hse.ru
Список литературы
- Майссел Л., Глэнг Р. Технология тонких пленок. М.: Сов. радио, 1977. Т. 1. 660 с.; Т. 2. 760 с.Ефимов И.Е., Козырь И.Я. Микроэлектроника. М.: Высшая школа, 1996. 460 с.Костиков В.И. Углеродные материалы. М.: Наука, 1997.Станишевский А.В. Структура пленок углерода, осажденных из плазмы. М.: Машиностроение, 1985. 233 с.Шешин Е.Л. Структура поверхности и эмиссионные свойства углеродных материалов. М.: Высшая школа, 1984. 270 с.Берлин Е., Двинин С. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок. М.: Техносфера, 2007.Данилин Б.А. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоиздат, 1989.Данилин Е.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982. 72 с.Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. 232 с.Ткачук Б.В., Колотыркин В.М. Получение тонких полимерных пленок из газовой фазы. М.: Химия, 1977. 216 с.Маишев Ю.П. Шевчук С.Л. Ионно-лучевая обработка: осаждение тонких пленок из низкоэнергетического пучка ионов // Труды ВТИАН. 2005. Т. 18. С. 148–160.
Дополнительные файлы
