ОСОБЕННОСТИ НАНОТОЧЕЧНОГО ДЕФЕКТООБРАЗОВАНИЯ В СТРУКТУРЕ por-SiC/Si, ПОЛУЧЕННОЙ ПО ДИФФУЗИОННОЙ ТЕХНОЛОГИИ ДЛЯ ХИМИЧЕСКИХ ДАТЧИКОВ - PDF (Русский)


© Чепурнов В., Сивакова К., Ермошкин А., 2011

Creative Commons License
Эта статья доступна по лицензии Creative Commons Attribution 4.0 International License.

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах