РАСПРЕДЕЛЕНИЕ ТОЧЕЧНЫХ ДЕФЕКТОВ В SI-ФАЗЕ, СОПРЯЖЕННОЙ С SIC-ФАЗОЙ, СФОРМИРОВАННОЙ МЕТОДОМ ЭНДОТАКСИИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР



Цитировать

Полный текст

Аннотация

В данной статье показано, что гетероструктуры карбида кремния на кремниевых подложках являются перспективным материалом высокотемпературной и радиационно устойчивой электроники. Твердофазный процесс эндотаксии карбида кремния сопровождается химическим превращением Si-фазы в SiC-фазу в среде водорода и углеводородов при температуре 1360-1380 °C и нормальном давлении. Исследовано распределение тепловых собственных точечных дефектов различной природы в кремниевой подложке в зависимости от типа ее проводимости и в условиях изовалентного легирования углеродом.

Об авторах

В.И. Чепурнов

Самарский государственный университет

Автор, ответственный за переписку.
Email: morenov.sv@ssau.ru

Список литературы

  1. Casady J.B., Jonson R.W. Status of silicon carbide (SiC) as a vide-bandgape semiconductor for high-temperature applications: a review // Solide-State Elektronics. 1996. V. 39. № 10. P. 1409—1422.
  2. Мощные биполярные приборы на основе карбида кремния. Обзор / П.А. Иванов [и др.] // Физика и техника полупроводников. 2005. Т. 39. Вып. 8. C. 897—912.
  3. Иванов А.М., Строкан Н.Б., Лебедев А.А. Радиационная стойкость широкозонного материала на примере SiC-детекторов ядерного излучения // Журнал технической физики. 2012. Т. 82. Вып. 4. С. 137—141.
  4. Кайданов В.И., Немов С.А., Равич Ю.И. Самокомпенсация электрически активных примесей собственными дефектами в полупроводниках // Физика и техника полупроводников. 1994. Т. 28. Вып. 3. С. 369—393.
  5. Лебедев А.А. Центры с глубокими уровнями в карбиде кремния. Обзор // Физика и техника полупроводников. 1999. Т. 33. Вып. 2. С. 129—155.
  6. Медведев Н.И., Юрьева Н.И., Ивановский А.Л. Электронная структура кубического карбида кремния с 3d-примесями в Si- и C-позициях замещения // Физика и техника полупроводников. 2003. Т. 37. Вып. 11. С. 1281—1284.
  7. Зубрилов А.С. Электрические свойства гетеропереходов 3^SiC/Si // Физика и техника полупроводников. 1994. Т. 28. Вып. 10. С. 1742—1748.
  8. Чепурнов В.И., Сивакова К.П. Анализ точечного дефектообразовния в гомогенной фазе SiC, формирующейся в процессе эндотаксии гетероструктуры SiC-Si // Вестник СамГУ. Естественнонаучная серия. 2006. № 9(49). С. 72-91.
  9. Влияние легирующей примеси на распределение точечных дефектов в гете-роструктуре SiC-Si / В.И. Чепурнов [и др.] // Вестник СамГУ. Естественнонаучная серия. 2008. № 6(65). С. 352-366.
  10. Особенности наноточечного дефектообразования в структуре por-SiC|/Si, полученной по диффузионной технологии для химических датчиков / В.И. Чепурнов [и др.] // Вестник Самарского государственного технического университета. Сер.: Физ.-мат. науки. 2009. № 2(19). С. 99-106.
  11. Модель явлений переноса в системе (Si-C-H) при гетероэндотаксии структур SiC-Si / В.И. Чепурнов [и др.] // Вестник СамГУ. Естественнонаучная серия. 2008. № 6(65). С. 367-378.
  12. Ковтуненко П.В. Физическая химия твердого тела. Кристаллы с дефектами. М.: Высшая школа, 1993. 352 с.
  13. Мильвидский М.Г., Освенский В.Б. Структурные дефекты в монокристаллических полупроводниках. М.: Металлургия, 1984. 255 с.
  14. Карбид кремния / под ред. Г. Хениша, Р. Роя. М.: Мир. 1972. С. 43.
  15. Полинг Л. Общая химия. М.: Мир. 1974. 846 с.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Чепурнов В., 2012

Creative Commons License
Эта статья доступна по лицензии Creative Commons Attribution 4.0 International License.

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах